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污水處理設(shè)備工程案例新聞
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電子元器件廢水處理工程中MBR曝氣裝置的設(shè)計(jì)要點(diǎn)-【污水處理設(shè)備環(huán)保知識】

文章出處:廢水處理工程網(wǎng)責(zé)任編輯:Krystal作者:Krystal人氣:-發(fā)表時(shí)間:2022-09-28 00:00:00【

電子元器件廢水處理工程中MBR曝氣裝置的設(shè)計(jì)要點(diǎn)

 

今天依斯倍環(huán)保將和你談?wù)勲娮釉骷?span style="color: rgb(255, 0, 0);">廢水處理工程中MBR曝氣裝置的設(shè)計(jì)要點(diǎn),希望對你的日常環(huán)保設(shè)備維護(hù)工作有所幫助。

 

1、曝氣裝置可固定在池底(需要做膜組件支架和膜組件滑入導(dǎo)軌),或與膜組件一起做,各有利弊。曝光氣管的位置要慎重考慮。每根膜片間隙對應(yīng)一穿孔管,穿孔尺寸為φ2.0mm,穿孔間距為100mm。鄰接管道的穿孔位置交錯(cuò)穿插,孔是單排垂直向上。可以使用雙行和傾斜方式。依斯倍認(rèn)為不可取,沉降污泥不會(huì)堵塞孔。

 

2、大致估計(jì)通氣量。依據(jù)經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù),風(fēng)機(jī)排氣壓頭可按汽水比24:1(常規(guī)池深3.5m)選擇,比大液位高0.01兆帕;風(fēng)機(jī)出口設(shè)置排氣閥,排氣管口徑全開,排出70%的空氣量。排氣口設(shè)有消音裝置,用來控制生化槽差量,保護(hù)風(fēng)機(jī)。

 

3、各膜組合曝氣設(shè)置有單獨(dú)的調(diào)節(jié)閥,而整個(gè)生化槽的充氧曝氣另作獨(dú)立控制閥,并采用微孔充氧曝氣裝置,保證了混合空氣和充氧空氣的靈活調(diào)節(jié)。

 

4、MBR池的控制在2.5~5ppm之間,正常的液位在3ppm左右,液位高低不同,不宜長時(shí)間超過5.0ppm。

 

上面是依斯倍環(huán)保小編和大家聊的電子元器件廢水處理工程中MBR曝氣裝置的設(shè)計(jì)要點(diǎn),希望能對大家有所幫助。

 

電子元器件廢水處理工程中MBR曝氣裝置的設(shè)計(jì)要點(diǎn)

 

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